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本发明使用绝缘性涂布膜形成层间绝缘膜，所述绝缘性涂布膜具有２．５以下的介电常数ｋ，且由通式（（ＣＨ３）ｎＳｉＯ２－ｎ／２）ｘ（ＳｉＯ２）１－ｘ（式中，ｎ＝１～３、ｘ≤１）所表示的一种或二种以上的氧化物构成。利用旋涂涂布得到的绝缘性涂布膜不反...该专利属于国立大学法人东北大学;东京毅力科创株式会社;宇部兴产株式会社;宇部日东化成株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过国立大学法人东北大学;东京毅力科创株式会社;宇部兴产株式会社;宇部日东化成株式会社授权不得商用。