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本实用新型提供了一种离子注入和等离子体沉积设备，该设备包括离子源和真空室，其中，所述真空室壁上包括设置有抽真空口以及用于与所述离子源连通的开口；所述真空室内包括设置有放卷辊、冷却部件、收卷辊；所述冷却部件由至少所述１根冷却辊组成，所述冷却辊...
该专利属于深圳市信诺泰创业投资企业（普通合伙）所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市信诺泰创业投资企业（普通合伙）授权不得商用。

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