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本发明公开了一种在激光干涉纳米光刻中对光束入射姿态进行检测及校准的方法，其特征在于：在激光干涉纳米光刻中，使用ＣＣＤ检测每束激光在光刻样品表面形成的光斑并进行计算机图像处理，通过光斑的形状、位置等参数来确定激光束相对于光刻样品表面的入射姿态...
该专利属于长春理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过长春理工大学授权不得商用。

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