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选择性射极结构的电极图形的对齐方法技术
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文档序号:5111823
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一种选择性射极结构的电极图形的对齐方法,包括下列步骤:首先提供一基材,接着于基材上形成一障壁层,并图形化障壁层使部分基材暴露出而形成一电极图形区。然后,改变电极图形区的基材的表面特性,以形成一图形化可视标记。随后,移除障壁层。最后以图形化可...
该专利属于益通光能科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过益通光能科技股份有限公司授权不得商用。
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