温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明的抛光垫可以用来对磁性基片、光学基片和半导体基片中的至少一种进行抛光。多孔抛光层包括位于聚氨酯基质中的双孔隙率结构。所述双孔隙率结构包括主要孔组，该主要孔组包括孔壁，所述孔壁的厚度为１５－５５μｍ，孔壁在２５℃测得的储能模量为１０－６...
该专利属于罗门哈斯电子材料ＣＭＰ控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料ＣＭＰ控股股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。