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提供了一种用于进行曝光的激光曝光方法，其中使支撑多个物体（工件５）的支撑台（２）、以及在执行基于反射光的聚焦伺服控制的同时照射物体的激光束照射装置（３）彼此相对移动。所述方法包括：控制开始步骤，即，当激光束已经到达物体上的聚焦开始位置（ＦＳ...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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