激光曝光方法、光致抗蚀剂层加工方法和用于制造图案成形品的方法技术

提供了一种用于进行曝光的激光曝光方法，其中使支撑多个物体（工件５）的支撑台（２）、以及在执行基于反射光的聚焦伺服控制的同时照射物体的激光束照射装置（３）彼此相对移动。所述方法包括：控制开始步骤，即，当激光束已经到达物体上的聚焦开始位置（ＦＳ）时，开始聚焦伺服控制；控制停止步骤，即，当激光束已经到达物体上的聚焦停止位置（ＦＥ）时，停止聚焦伺服控制；以及保持步骤，即，将光学部件（物镜３５）的位置保持在预定的位置，保持时间到从物体上的聚焦停止位置（ＦＥ）开始的激光束到达下一个物体上的聚焦开始位置（ＦＳ）为止。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在对多个分开的物体执行聚焦伺服控制的同时用激光束照射各个 物体的激光曝光方法，光致抗蚀剂层加工方法，以及用于制造图案成形品(patterned casting)的方法。
技术介绍
通常，已知有一种技术，通过用激光束照射其上涂敷有光致抗蚀剂层的工件并 随后通过显影工艺移除照射部分，以在工件(物体)的表面上形成凹凸。如果在加工正 在旋转(自转)的工件时执行此技术，则对旋转工件更接近其旋转中心的部分进行加工将 花费更多的时间，因为旋转工件的转速朝向旋转中心变慢，并且考虑到激光输出量和转 速之间的关联，将难以精确地加工工件更接近旋转中心的部分。为了解决这些问题，本申请所指专利技术人考虑如下方法通过使多个工件围绕工 件支撑台的旋转中心公转以单个步骤加工工件，在所述工件支撑台上，将工件在工件不 与支撑台的旋转中心交迭的位置排列于支撑台的圆周方向上。然而，采用此方法，将无 法适当地进行在加工每个工件的过程中执行的聚焦伺服控制，这是由每个工件表面的反 射率和工件之间(支撑台的)区域的反射率的不同造成的。作为与上述聚焦伺服控制相关的传统技术，已知一种在用于测试的信息记录介 质(在下文中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使用激光束将多个物体曝光的激光曝光方法，其中使支撑台和激光束照射装置沿所述多个物体的排列方向彼此相对移动，所述支撑台支撑在其上间隔开的所述多个物体，所述激光束照射装置在执行基于反射光使其光学部件移动的聚焦伺服控制的同时使用激光束照射所述物体，所述激光曝光方法包括：　　控制开始步骤，即，在由所述激光束照射装置发射的激光束已经到达物体上的聚焦开始位置的条件下，开始所述聚焦伺服控制；　　控制停止步骤，即，在由所述激光束照射装置发射的激光束已经到达所述物体上的聚焦停止位置的条件下，停止所述聚焦伺服控制；和　　保持步骤，即，将所述光学部件的位置保持在预定的位置，保持时间从由所述激光束照射装置发射的激...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：宇佐美由久，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP