激光曝光方法、光致抗蚀剂层加工方法和用于制造图案成形品的方法技术

提供了一种用于进行曝光的激光曝光方法，其中使支撑多个物体（工件５）的支撑台（２）、以及在执行基于反射光的聚焦伺服控制的同时照射物体的激光束照射装置（３）彼此相对移动。所述方法包括：控制开始步骤，即，当激光束已经到达物体上的聚焦开始位置（ＦＳ）时，开始聚焦伺服控制；控制停止步骤，即，当激光束已经到达物体上的聚焦停止位置（ＦＥ）时，停止聚焦伺服控制；以及保持步骤，即，将光学部件（物镜３５）的位置保持在预定的位置，保持时间到从物体上的聚焦停止位置（ＦＥ）开始的激光束到达下一个物体上的聚焦开始位置（ＦＳ）为止。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及在对多个分开的物体执行聚焦伺服控制的同时用激光束照射各个 物体的激光曝光方法，光致抗蚀剂层加工方法，以及用于制造图案成形品(patterned casting)的方法。
技术介绍
通常，已知有一种技术，通过用激光束照射其上涂敷有光致抗蚀剂层的工件并 随后通过显影工艺移除照射部分，以在工件(物体)的表面上形成凹凸。如果在加工正 在旋转(自转)的工件时执行此技术，则对旋转工件更接近其旋转中心的部分进行加工将 花费更多的时间，因为旋转工件的转速朝向旋转中心变慢，并且考虑到激光输出量和转 速之间的关联，将难以精确地加工工件更接近旋转中心的部分。为了解决这些问题，本申请所指专利技术人考虑如下方法通过使多个工件围绕工 件支撑台的旋转中心公转以单个步骤加工工件，在所述工件支撑台上，将工件在工件不 与支撑台的旋转中心交迭的位置排列于支撑台的圆周方向上。然而，采用此方法，将无 法适当地进行在加工每个工件的过程中执行的聚焦伺服控制，这是由每个工件表面的反 射率和工件之间(支撑台的)区域的反射率的不同造成的。作为与上述聚焦伺服控制相关的传统技术，已知一种在用于测试的信息记录介 质(在下文中称为“试样”)中记录或从中再生(retrieve)信息的技术，但是这不是用于 在工件的表面上形成凹凸的技术(见JP 3-134832A)。更具体而言，在此技术中，将多 个试样在工件不与转台的旋转中心交迭的位置排列在转台的圆周方向上，并且当测试头 (head)对每个试样进行记录或再生的操作时执行基于反射光的聚焦伺服控制，同时在测 试头经过两个试样之间时在不使用反射光的条件下使包含在测试头中的物镜在预定的聚 焦控制容许范围内上下往复移动。因此，在测试头通过了两个试样之间并到达其中的第 二个试样后，物镜已经处于聚焦控制容许范围内，并因而可以对第二个试样适当地执行 聚焦伺服控制。然而，在此传统技术中，因为当物镜在两个试样之间时使其上下往复移动，物 镜将有可能在到达第二试样时从正常位置较大地偏离，视情况而定；在此情况下，不利 地，在聚焦伺服控制在此情况下变得稳定之前需要经过额外的时间。因此，适宜的是提供可以使聚焦伺服控制更快地稳定的激光曝光方法、光致抗 蚀剂层加工方法和用于图案成形品的制造方法。
技术实现思路
在本专利技术的一个方面，提供了一种使用激光束将多个物体曝光的激光曝光方 法，其中使支撑台和激光束照射装置沿所述多个物体的排列方向彼此相对移动，所述支 撑台支撑在其上间隔开的所述多个物体，所述激光束照射装置在执行基于反射光使其光学部件移动的聚焦伺服控制的同时使用激光束照射所述物体。该方法包括控制开始 步骤，即，在由所述激光束照射装置发射的激光束已经到达物体上的聚焦开始位置的条 件下，开始所述聚焦伺服控制；控制停止步骤，即，在由所述激光束照射装置发射的激 光束已经到达所述物体上的聚焦停止位置的条件下，停止所述聚焦伺服控制；和保持步 骤，即，将所述光学部件的位置保持在预定的位置，保持时间从由所述激光束照射装置 发射的激光束到达所述物体上的聚焦停止位置时开始，直至由所述激光束照射装置发射 的激光束到达下一个物体上的聚焦开始位置为止。在本专利技术的这种方式中，当相对于物体移动的激光束到达所述物体上的聚焦开 始位置时，开始聚焦伺服控制。更具体而言，使光学部件基于从物体反射的反射光移 动，并且将从激光束照射装置发射的激光束聚焦在物体中特定的位置。当激光束到达 物体上的聚焦停止位置时，停止聚焦伺服控制，并且将光学部件的位置保持在预定的位 置。因此，当激光束到达下一个物体上的聚焦开始位置时，再次开始聚焦伺服控制，并 且使光学部件自预定的位置开始移动。因此，如果将放置在支撑台上的多个物体的表面 位置设置为相对于预定的位置处于大体相同的位置，则当使激光束从当前聚焦的物体移 动到下一个物体时，光学部件相对于下一个物体的位置将被保持在接近正常位置(相当 于将在后描述的焦点(in-focus)位置)的位置，从而可以使聚焦伺服控制更快地稳定。在以上构造中，任选地，可以将聚焦开始位置和聚焦停止位置设置在将激光束 全部照射于物体上的位置。以此特征，因为当激光束处于聚焦开始位置和聚焦停止位置时，将全部激光束 照射于物体，因此可以防止在激光束部分地偏离物体照射的情况下导致的潜在风险，比 如无法恰当地执行聚焦伺服控制。在以上构造中，可以配置为在保持步骤中，持续从激光束照射装置连续地或间 断地发射激光束。以此特征，与在保持步骤过程中停止激光束的发射的方法相比，当对下一个物 体的聚焦伺服控制开始时可以更稳定地发射激光束。此外，可以配置为在控制开始步骤、控制停止步骤和保持步骤中，持续从激光 束照射装置间断地发射激光束。以此构造，可以以始终持续间断地发射激光束这样的简化模式实现对激光束照 射装置的控制；因此，可以以提高的精确度执行控制。预定位置可以是当停止所述聚焦伺服控制时光学部件所处的位置。以此特征，将光学部件保持在当停止聚焦伺服控制时光学部件所处的位置，并 从而可以免除光学部件的任何多余移动，从而可以使其驱动系统的磨损最小化。备选地，预定位置可以是与接下来将被照射的下一个物体的表面相对应的位 置。以此特征，即使多个物体的表面位置无法处于大体相同的位置，由于将光学部 件移动到并保持在与接下来将被照射的下一个物体的表面相对应的位置，因此也可以对 下一个物体适当地执行聚焦伺服控制。备选地，预定位置可以是对应聚焦误差信号的S形曲线的峰间间隔的位置。在此，“聚焦误差信号”是指字母S形式的曲线状的已知类型信号，其是当在没有执行聚焦伺服控制的情况下使光学部件仅沿其光轴方向的一个方向移动时而基于反 射光获得的。应理解的是当其在聚焦误差信号的S形曲线的峰之间时，将易于执行聚焦 伺服控制。以此特征，由于将光学部件保持在作为与聚焦误差信号的S形曲线的峰间间隔 对应的位置的位置，所以可以适当地开始对下一个物体的聚焦伺服控制。可以使支撑台旋转以使得多个物体绕支撑台的旋转轴公转。以结构简单的此构造，可以使多个物体相对于激光束照射装置移动。可以将所述激光束照射于所述物体的被限定在以下位置之间的范围内的部分 上在更靠近所述支撑台的旋转轴的边缘的内侧不小于lPm的位置；和在离所述支撑 台的旋转轴最远的边缘的内侧不小于1 P m的位置。以此特征，可以防止在物体的边缘有缺口部分的情况下导致的潜在风险，如作 为激光束部分地偏离物体照射的结果，无法恰当地执行聚焦伺服控制。作为本专利技术的另一个方面，在光致抗蚀剂层加工方法中，使支撑台和激光束照 射装置沿各自具有光致抗蚀剂层的多个物体的排列方向彼此相对移动，以使用激光束将 所述多个物体的所述光致抗蚀剂层曝光，所述支撑台支撑所述多个物体，所述多个物体 在所述支撑台上间隔开，所述激光束照射装置在执行基于反射光使其光学部件移动的聚 焦伺服控制的同时使用激光束照射所述物体的光致抗蚀剂层。所述光致抗蚀剂层加工方 法包括控制开始步骤，即，在由所述激光束照射装置发射的激光束已经到达物体上的 聚焦开始位置的条件下，开始所述聚焦伺服控制；控制停止步骤，即，在由所述激光束 照射装置发射的激光束已经到达所述物体上的聚焦停止位置的条件下，停止所述聚焦伺 服控制；和保持步骤，即，将所述光学部件的位置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使用激光束将多个物体曝光的激光曝光方法，其中使支撑台和激光束照射装置沿所述多个物体的排列方向彼此相对移动，所述支撑台支撑在其上间隔开的所述多个物体，所述激光束照射装置在执行基于反射光使其光学部件移动的聚焦伺服控制的同时使用激光束照射所述物体，所述激光曝光方法包括：　　控制开始步骤，即，在由所述激光束照射装置发射的激光束已经到达物体上的聚焦开始位置的条件下，开始所述聚焦伺服控制；　　控制停止步骤，即，在由所述激光束照射装置发射的激光束已经到达所述物体上的聚焦停止位置的条件下，停止所述聚焦伺服控制；和　　保持步骤，即，将所述光学部件的位置保持在预定的位置，保持时间从由所述激光束照射装置发射的激光束到达所述物体上的聚焦停止位置时开始，直至由所述激光束照射装置发射的激光束到达下一个物体上的聚焦开始位置为止。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：宇佐美由久，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP