下载半导体器件及其制造方法的技术资料

文档序号:5080063

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

MOSFET 1,其包括n+SiC衬底(11)、在n+SiC衬底(11)上形成的n-SiC层(12)以及布置成与n-SiC层(12)接触的源电极(22),该MOSFET代表一半导体器件,该半导体器件通过包括能够在充分抑制接触电阻的情况下与p...
该专利属于住友电气工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过住友电气工业株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。