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本发明涉及到具有上式的间二氧杂五环并苯并异∴唑衍生物，其中Ｒ－［１］是一个可以被卤原子、含有１－３个碳原子的低级烷基或低级卤代烷基取代的苯基，或者是一个噻吩基，Ｒ－［２］是一个氢原子或含有１－４个碳原子的低级烷基，Ｘ、Ｙ、表示氢原子或卤原子...
该专利属于中外制药株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过中外制药株式会社授权不得商用。

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