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本实用新型公开了一种湿法处理机台，在晶舟授台上靠近晶舟两侧的位置上下分别安装一组对射传感器，每组对射传感器的发射单元和接收单元分别安装在晶舟所置放的晶舟授台上及晶舟并拢初始位置上方的固定件上，当硅片倒下或斜出时，传感器对射光线被遮挡，传感器...
该专利属于上海华虹ＮＥＣ电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹ＮＥＣ电子有限公司授权不得商用。

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