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苯并吡喃和苯并恶嗪衍生物制造技术
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下载苯并吡喃和苯并恶嗪衍生物的技术资料
文档序号:500029
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具有K↑[+]通道作用活性的新的苯并吡喃和苯并嗪衍生物。该化合物如式(I)所示。式中,R↓[1]和R↓[2]为低级卤代烷基;R↓[3]为氢原子或与X直接结合的单键;R↓[4]为氨基、杂环基,或A-O-(A为碳环基或杂环基);R↓[5]和R↓...
该专利属于中外制药株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过中外制药株式会社授权不得商用。
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