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本发明涉及下式化合物＊＊＊其中Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］、Ｒ↑［４］、Ｒ↑［５］、Ｒ↑［６］、Ｒ↑［７］和Ｒ↑［８］分别为氢、任意取代的低级烷基、任意取代的低级烷氧基、羟基、酰氧基或卤素；Ｒ↑［９］是氢、羟基、酰氧基、任意取代的低级...
该专利属于盐野义制药株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过盐野义制药株式会社授权不得商用。

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