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一种集成有原子层沉积工艺的化学气相沉积设备，包括：化学气相沉积设备的气体输送系统、反应腔、尾气处理系统、加热系统、控制系统，其特征在于所述载气入口分别与原子层沉积工艺的载气阀（１１）、（１４）连接，载气阀（１１）、（１４）的另一端分别与尾气...该专利属于广东昭信半导体装备制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东昭信半导体装备制造有限公司授权不得商用。
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