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本发明提供一种等离子体处理装置及等离子体处理方法，能够增大主气体流路与多个支气体流路的气体流导之比。等离子体处理装置（１００），其激发气体来对被处理体进行等离子体处理，并具备：处理容器（１００）；供给预期的气体的气体供给源（９０５）；分流从...该专利属于东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学授权不得商用。