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功率场效应晶体管制造技术
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文档序号:4977553
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一种超短沟道混合功率场效应晶体管(FET)器件,其使电流从体硅流出而没有NPN寄生。该器件包括JFET部件、与JFET部件相邻布置的第一累积MOSFET、和在沟槽底端与JFET部件相邻布置的第二累积MOSFET,或者具有连接了源极的隔离栅极...
该专利属于威世硅尼克斯所有,仅供学习研究参考,未经过威世硅尼克斯授权不得商用。
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