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本发明适用于半导体设计技术领域，提供了一种等离子装置以及纳米晶硅薄膜的制作方法。其中装置包括：腔体；位于所述腔体中的电弧电极组，所述电弧电极组包括一阳极以及一阴极，所述阴极与阳极之间具有一电弧放电空间，且所述阴极与阳极在彼此相对的一端分别具...该专利属于深圳华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司授权不得商用。