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本发明提供一种低成本的溅射装置，其可促进从靶上飞溅的原子的离子化以进行稳定的自溅射。其包括：与在真空腔（２）内应处理的基板Ｗ相对配置的靶（３），在靶的溅射面的前方形成磁场的磁铁组合件（４），以及向靶施加负的直流电位的ＤＣ电源（５）。在靶的溅...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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