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一种等离子体处理设备（３０、５０），包括具有室壁（３５）的工艺室、气体进入装置和气体分布装置、排气装置、以及用于衬底（３３）的衬底支架（３４）。导电平板（５１）被设置在所述室内，可与面对所述导电平板（５１）的ＲＦ电源（３９）电连接，所述导电...该专利属于欧瑞康贸易股份公司（特吕巴赫）所有，仅供学习研究参考，未经过欧瑞康贸易股份公司（特吕巴赫）授权不得商用。
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一种等离子体处理设备（３０、５０），包括具有室壁（３５）的工艺室、气体进入装置和气体分布装置、排气装置、以及用于衬底（３３）的衬底支架（３４）。导电平板（５１）被设置在所述室内，可与面对所述导电平板（５１）的ＲＦ电源（３９）电连接，所述导电...