本发明涉及深孔钻头，具有在导引段的有效长度上延伸的第一覆层并且具有在钻头尖部处在切削区域内覆设的第二覆层，其范围在最大相应于两倍的钻头公称直径的轴向长度上延伸。由此就能在钻头尖部因为使用而磨损时在其锐化之后重新覆层，尤其即使经过多次重磨...

氢渗透阻挡物的制备方法，包括以下步骤a)在基体(SUB)上沉积包括至少一个层(L1；L2；L3)的层系统(LS)；其特征在于步骤a)包括以下步骤：b)沉积至少一个包括至少三元氧化物的氢阻挡层(HPBL)。该装置包括可密封的容积和形成限定...

本发明涉及一种涂层系统，包括至少一个由A纳米层和B纳米层彼此交替沉积而成的多层膜，其特征在于A纳米层主要包含铝铬硼氮化物，而B纳米层主要包含铝铬氮化物。

本发明涉及具有涂层系统的涂布滑动部件，所述涂层系统允许在干燥和/或润滑条件下有更好的滑动性能。本发明的涂层系统特征在于具有最外层，该最外层在润滑条件下的滑动应用情况下，为包含氧化物的光滑层，或在干燥或润滑条件下的滑动应用情况下，为包含氮...

本发明涉及一种用于借助于雾化目标材料涂装衬底的方法，其中包括下列步骤：-在涂装室中以功率脉冲施加由第一材料制成的第一溅射目标，借助于功率脉冲在第一时间间隔期间将第一能量量传递到溅射目标上，其中对此最大功率密度超过50W/cm2并且优选超...

本发明涉及具有层体系的塑料部件，其中所述层体系包含施加在塑料表面上的底漆层，在所述底漆层上有借助气相沉积施加的层，该层本身被面漆层覆盖，其特征在于，所述由气相沉积施加的层包含多个层片。

本发明涉及一种红外线传感器，尤其是一种光学手指导航模块，其具有应用为传感器的覆盖玻璃的组件，其中该组件包括传感器区域和透明区域，其中该透明区域具有薄的、对于可见光而言至少部分可透过、包括至少一层的层系统，并且所述至少一层是金属层、半导体...

本发明涉及用于借助于等离子体反应测定在涂装过程的气体消耗的方法，其具有下列步骤:a）将反应气体吸入涂装室中其中测量相应反应气体流量并且同时测量在涂装室中占多数的部分压力，而不点燃等离子体b）将反应气体吸入涂装室中其中测量相应反应气体流量...

本发明涉及一种借助于PVD涂覆工艺涂覆Al-Cr-O涂层的方法。借助于掺杂Si的含Al和Cr的靶进行PVD涂覆工艺。Si的掺杂防止反应性涂覆工艺过程中在靶上形成氧化物岛。

本发明涉及一种用于反应溅射的方法，其中借助离子轰击，材料从第一靶子的表面脱离并且过渡到气相，其中在该靶子上如此以脉冲方式施加负电压，使得在靶子表面上产生电流密度大于0.5A/cm2的电流，以便过渡到气相的材料至少部分被离子化并且其中构建...

本发明涉及一种用于提供用于PVD雾化阴极的功率脉冲的方法，PVD雾化阴极包括功率吸收部件和部分阴极，其中在发生器的功率建立间隔期间在功率吸收部件上降低功率并且接着在部分阴极上降低功率，其中如此切换，使得不必中断从提供功率的发生器提取功率。

本发明涉及靶，其构造为用于气相沉积方法的材料源、带有前侧和背侧，其特征在于，在背侧处粘有自粘性的碳薄膜。靶可构造为用于溅射方法和/或用于阴极火花蒸镀方法的材料源。特别有利地，靶用在带有间接的冷却部的涂覆源中，其中，自粘性的碳薄膜与膜片处...

本发明涉及一种HIPIMS方法，通过该方法能够在涂敷室的高度上沉积均匀的层。在此使用两个分阴极。根据本发明，单独选择对这些分阴极施加的各个功率脉冲区间的长度，并且这样在涂敷室的高度上实现希望的涂层厚度轮廓。

本发明涉及一种用于将六角形氮化硼涂覆在粗糙表面上的方法，其中所述氮化硼作为耐高温的润滑剂能够供表面使用。按照本发明将由六角形氮化硼制成的销钉以压力擦磨在粗糙表面上，由此使氮化硼擦磨粘附地保留在表面上。

用于在真空室中电弧涂覆或电弧离子镀涂覆基材的涂覆方法，其中使用电弧蒸发器蒸发充当阴极的固体材料，在电弧蒸发过程中，使用磁场加速阴极辉点在固体材料表面上的移动来避免从固体材料表面逐出大量的大颗粒或液滴，由电弧蒸发产生的带负电荷的颗粒从阴极...

本发明涉及(Al,Ti)N涂层，其显示具有至少两个不同涂层部分A和B，具有纳米数量级的颗粒大小，其特征在于所述涂层部分A显示具有比所述涂层部分B更大的颗粒大小和更高的弹性模量。本发明还涉及一种用于用上述涂层涂布基底的方法，从而借助于PV...

本发明涉及在至少一个基材上通过喷雾由气相沉积PVD层体系的方法，其中该层体系包括至少一个第一层，其特征在于，至少在该方法的一个步骤中使用功率密度为至少250W/cm2的HIPIMS方法，其中使用至少5ms时间的脉冲长度，在此期间在基材上...

本发明涉及用于电弧源的点火装置，即用于在真空覆层设备中点火电弧蒸发器的大电流放电的点火装置。利用机械地接通和断开在阴极与阳极之间的接触。该接触利用在强制轨迹上活动的点火销建立。由于强制轨迹可以使点火销利用简单的机械驱动装置移动到免受覆层...

本发明涉及一个真空处理设备，具有旋转台滑架，其中旋转台驱动装置设置在那个壁体上，该壁体位于真空处理设备的门对面。由此保证没有其它机构地连接旋转台滑架的旋转台到旋转台驱动装置上。

本发明涉及一种具有在塑料基底上施加的电镀层布置的装饰件。在该电镀层布置上提供了含粘附层、混合层和显色覆盖层的PVD-层布置，其中该混合层提供耐抗性特别是耐腐蚀性，并赋予该表面所需的硬度。