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本发明提供溅射用靶、单晶性薄膜的制造方法以及显示装置。在通过磁控溅射来成膜ＬａＢ６薄膜时，改善所得到的ＬａＢ６薄膜的广域畴方向的单晶性。使用含有硼原子（Ｂ）、镧原子（Ｌａ）以及碳原子（Ｃ）的溅射用靶。...
该专利属于佳能安内华股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过佳能安内华股份有限公司授权不得商用。

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