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作为内皮素拮抗剂的取代苯基化合物制造技术
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文档序号:488309
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式(Ⅰ)的化合物;其N-氧化物和药物前体,以及其可药用的盐: *** (Ⅰ) 式中: R↑[1]是CN、CH↓[2]CN、CH=CHCN、CHO或CH=CHCO↓[2]H; R↑[2]是芳基低级烷氧基、杂芳基低级烷...
该专利属于罗纳-布朗克罗勒有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过罗纳-布朗克罗勒有限公司授权不得商用。
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