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本公开公开了一种图形化衬底、发光二极管及其制备方法，属于半导体技术领域。所述图形化衬底包括衬底本体、位于所述衬底本体的表面具有多个第一凸起和多个第二凸起，所述多个第一凸起间隔排布形成多个第一六边形，所述多个第二凸起间隔排布形成多个第二六边形...
该专利属于京东方华灿光电（浙江）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方华灿光电（浙江）有限公司授权不得商用。

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