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本发明涉及抗蚀剂图案形成方法。本发明提供抗蚀剂图案形成方法；使用非化学增幅抗蚀剂组成物，将曝光后的抗蚀剂膜用干蚀刻进行显影形成正型或负型的抗蚀剂图案，该非化学增幅抗蚀剂组成物在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限分辨率优良。一种抗蚀剂图案形...
该专利属于信越化学工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。

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