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本公开涉及一种沉积掩模和电子装置。沉积掩模包括：掩模基底，包括多个单元区域和围绕多个单元区域的单元外围区域；掩模隔膜，设置在掩模基底的多个单元区域中并且包括限定像素开口的掩模遮蔽件；掩模框架，设置在掩模基底的单元外围区域中并且包括位于掩模基...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

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