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本发明涉及一种沉积装置，沉积装置包括：腔室，提供进行沉积工艺的内部空间；以及至少一个磁体单元，位于所述腔室的下部，并且所述至少一个磁体单元中的每一个具有第一磁体部件以及位于所述第一磁体部件的外廓并与所述第一磁体部件相隔的第二磁体部件，其中，...
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