温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

公开了一种沉积掩模、用于制造沉积掩模的方法和电子装置。该沉积掩模包括：掩模基底，包括多个单元区域和在平面图中围绕单元区域的单元外围区域；掩模隔膜，与掩模基底的单元区域叠置，限定像素开口，并且包括掩模阴影；以及掩模框架，与单元外围区域叠置，并...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。