温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及用于处理衬底的表面的方法和装置。所公开的实施方案的方面涉及利用原子层沉积（ALD）对衬底的表面进行处理以生长高质量薄膜层，这是通过首先制备衬底表面，然后在ALD生长之前在衬底的表面上建立改善的界面层。这些方法都在单一处理设备内实现...
该专利属于康普泰克解决方案公司所有，仅供学习研究参考，未经过康普泰克解决方案公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。