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本技术提供了分体式晶圆支撑机构及工艺腔室。分体式晶圆支撑机构包括多个第一环体、多个第二环体及第一升降机构。多个第一环体经由多根第一支杆设于工艺腔室内部，用于支撑晶圆边缘的多个第一位置。多根第一支杆位于晶圆下方的喷淋头的外围。多个第二环体经由...
该专利属于拓荆科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技（上海）有限公司授权不得商用。

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