温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本公开提供了一种半导体设备及其清洁方法，半导体设备包括反应腔室、进料管路、排料管路和旁通管路，旁通管路的两端分别与进料管路和排料管路相连，旁通管路上设置有旁路驱动单元。本公开中，设置于旁通管路的旁路驱动单元能够对旁通管路内残留的第二物料施加...
该专利属于长鑫集电（北京）存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫集电（北京）存储技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。