下载含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物的技术资料

文档序号:46601783

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一种含硅抗蚀剂下层膜形成用组合物,其含有[A]成分:聚硅氧烷,以及[C]成分:溶剂,所述聚硅氧烷包含来自水解性硅烷(A)的结构单元,所述水解性硅烷(A)具备具有与芳香族环直接键合的碘原子的芳基磺酰基和具有与芳香族环直接键合的碘原子的芳基硫酯...
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