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本申请涉及玻璃蚀刻液制备技术领域，特别涉及一种适用于高透过率防眩剥离蚀刻液及制备方法。按照质量份数，所述适用于高透过率防眩剥离蚀刻液包括基底液，改性分散液，调节剂，稳定剂；所述改性分散液的制备方法包括以下步骤：将二硫化钼纳米颗粒与聚维酮加入...
该专利属于南通得安电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南通得安电子材料有限公司授权不得商用。

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