一种适用于高透过率防眩剥离蚀刻液及制备方法技术

技术编号:46601228 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-10 21:32
本申请涉及玻璃蚀刻液制备技术领域,特别涉及一种适用于高透过率防眩剥离蚀刻液及制备方法。按照质量份数,所述适用于高透过率防眩剥离蚀刻液包括基底液,改性分散液,调节剂,稳定剂;所述改性分散液的制备方法包括以下步骤:将二硫化钼纳米颗粒与聚维酮加入到乙醇溶液中,超声分散后得到分散液;向所述分散液中加入N‑氨乙基‑3‑氨丙基甲基二甲氧基硅烷,将反应体系的温度升高至60℃,并保持此温度搅拌1h,得到改性分散液。本申请通过提供一种适用于高透过率防眩剥离蚀刻液及制备方法,以解决相关技术中非氟蚀刻液蚀刻速率较低,且无法满足高透过率和防眩性能性能平衡的问题。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及玻璃蚀刻液制备,特别涉及一种适用于高透过率防眩剥离蚀刻液及制备方法


技术介绍

1、在玻璃加工领域,尤其是对于高透过率防眩玻璃的制备,主要分为机械法和化学法。机械方式加工的方法主要分为喷砂法、磨砂法和喷吹法三种,这些方法虽然能够形成防眩结构,但表面粗糙度的一致性差,而化学加工的方法种类比较多,主要包括化学蚀刻法和玻璃表面镀膜法,其中化学蚀刻法最为常用,通常包括含氟蚀刻液和非氟蚀刻液。其中含氟蚀刻液危害及环境风险较大,而非氟蚀刻液虽避免了强酸使用,但蚀刻速率较低、难以满足大规模生产需求。另一方面,在化学蚀刻的过程中,氟化物与玻璃反应生成的盐类(如氟化硅)的溶解度差异显著,在蚀刻液中,部分区域的氟化硅易发生沉淀,阻碍蚀刻反应继续进行,造成蚀刻不均匀,严重影响后续蚀刻效果与产品质量。


技术实现思路

1、本申请提供一种适用于高透过率防眩剥离蚀刻液及制备方法,以解决相关技术中非氟蚀刻液蚀刻速率较低,且无法满足高透过率和防眩性能性能平衡的问题。

2、第一方面,提供了一种适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,其特征在于,按照质量份数,其包括:

2.如权利要求1所述的适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,其特征在于:

3.如权利要求1所述的适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,其特征在于,所述改性分散液的制备方法中,向所述分散液中加入N-氨乙基-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷之前还包括以下步骤:

4.如权利要求3所述的适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,其特征在于:

5.如权利要求1所述的适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,其特征在于:

6.如权利要求1所述的适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,其特征在于:

7.如权利要求...

【技术特征摘要】

1.一种适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,其特征在于,按照质量份数,其包括:

2.如权利要求1所述的适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,其特征在于:

3.如权利要求1所述的适用于高透过率防眩剥离蚀刻液,其特征在于,所述改性分散液的制备方法中,向所述分散液中加入n-氨乙基-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷之前还包括以下步骤:

4.如权利要求3所述的适用于高透过率防眩剥...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈敬伦
申请(专利权)人:南通得安电子材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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