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本发明公开了一种高阻隔抗皱航空隔离膜及其制备方法,涉及膜材料技术领域,包括基膜层及涂敷于基膜层外表面的功能性保护层;所述基膜层自上而下依次包括抗皱层、阻隔层、基材层;所述阻隔层包括如下重量份原料:乙烯‑乙烯醇共聚物70‑80份、MXene纳...该专利属于苏州市新广益电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州市新广益电子股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种高阻隔抗皱航空隔离膜及其制备方法,涉及膜材料技术领域,包括基膜层及涂敷于基膜层外表面的功能性保护层;所述基膜层自上而下依次包括抗皱层、阻隔层、基材层;所述阻隔层包括如下重量份原料:乙烯‑乙烯醇共聚物70‑80份、MXene纳...