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存储单元、存储阵列及其形成方法技术
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下载存储单元、存储阵列及其形成方法的技术资料
文档序号:46593640
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一种存储单元、存储阵列及其形成方法,存储单元包括:沟道层沿第一方向的一侧与第二导电层的第一面相接触,沟道层沿第一方向的另一侧与第一导电层相接触;第二导电层的第二面和第三导电层之间具有介质层。第一导电层能够兼顾晶体管的漏极和存储阵列位线的作用...
该专利属于芯盟科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过芯盟科技有限公司授权不得商用。
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