温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开一种基于硅‑玻璃键合基底的非等高垂直梳齿自对准制备方法，包括：采用电子束蒸发技术在玻璃基底的第一表面沉积铬金属层和金金属层，剥离形成金属电极和金属走线；在硅基底的第一表面制备掩膜，进行锚点刻蚀；将玻璃基底的第一表面与硅基底的第一表...
该专利属于启元实验室所有，仅供学习研究参考，未经过启元实验室授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。