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一种半导体结构、制作方法及电子器件技术
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文档序号:46589742
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本申请涉及半导体技术领域,公开了一种半导体结构、制作方法及电子器件,该半导体结构包括:衬底、功能层,第一电极、第二电极和第一热电体,第一电极和第二电极设置在功能层背离衬底的一侧,第一热电体设置在衬底中,第一热电体包括沿第一方向排列的第一P型...
该专利属于深圳平湖实验室所有,仅供学习研究参考,未经过深圳平湖实验室授权不得商用。
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