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本发明提供一种干法刻蚀设备中沉积环与缓冲板的定位治具，刻蚀设备包括刻蚀腔壁、沉积环和缓冲板，定位治具包括：呈同心设置的第一校正部和第二校正部；第一校正部用于嵌入至刻蚀腔壁与沉积环之间，使沉积环与刻蚀腔壁在第一方向上保持第一安装间隙；第二校正...
该专利属于上海新微技术研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新微技术研发中心有限公司授权不得商用。

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