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本发明涉及晶圆研磨抛光技术领域，尤其涉及基于自动控制系统的晶圆研磨抛光装置。为了克服单面研磨会导致晶圆因应力分布不均产生损坏的缺点。包括上下对称分布且均设置于外壳的两个电控研磨盘，以及安装于所述外壳的固定盘，所述固定盘设置有周向均匀分布的放...
该专利属于赣州职业技术学院所有，仅供学习研究参考，未经过赣州职业技术学院授权不得商用。

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