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一种偏光片清洁设备，涉及偏光片生产技术领域，包括：底座，其上部相向固定安装有两支架，并在两支架之间设有两个并排布置的吸附模块，每一吸附模块内均设有若干吸附位，每一吸附模块底部均配置有为其提供负压的小型真空泵，小型真空泵的吸气端与若干吸附位连...
该专利属于重庆合利众恒科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过重庆合利众恒科技有限公司授权不得商用。

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