一种偏光片清洁设备制造技术

技术编号:46584104 阅读:1 留言:0更新日期:2025-10-10 21:21
一种偏光片清洁设备,涉及偏光片生产技术领域,包括:底座,其上部相向固定安装有两支架,并在两支架之间设有两个并排布置的吸附模块,每一吸附模块内均设有若干吸附位,每一吸附模块底部均配置有为其提供负压的小型真空泵,小型真空泵的吸气端与若干吸附位连通;往复机构,其设置在两支架之间;以及清洁机构,其包括与往复机构的动力输出端相连的连接部、沿平行于两支架的方向滑动设置在连接部底部的滑动部、相向布置在两支架之间的限位部以及沿竖直方向伸缩连接在滑动部底部的清洁部,连接部沿垂直于两支架的方向滑动,滑动部位于两限位部之间其与两限位部滑动相抵,两限位部用于在连接部运动过程中限制滑动部沿平行于两支架的方向往复滑动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及偏光片生产,具体涉及一种偏光片清洁设备


技术介绍

1、偏光片的全称是偏振光片,由于液晶显示器的成像必须依靠偏振光,因此所有的液晶前后都有偏振光片紧贴,从而组成总厚度1mm左右的液晶片。

2、而在偏光片的加工过程中,偏光片的表面会因为静电的作用粘连灰尘,因此需要对偏光片表面进行清洁以保证偏光片能够与液晶进行良好的贴合,现有一般都是人工采用抛光布或者无尘布来对偏光片表面进行擦拭清洁,然而这种方法清洁效率低,并且对每个偏光片的清洁程度存在差异,从而影响后续生产的液晶片的良品率。


技术实现思路

1、针对现有技术中所存在的不足,本专利技术的目的在于提供一种偏光片清洁设备,以解决现有技术中对偏光片表面清洁效率低以及清洁程度存在差异的问题。

2、为实现上述目的,本专利技术采用了如下的技术方案:

3、一种偏光片清洁设备,包括:

4、底座,其上部相向固定安装有两支架,并在两所述支架之间设有两个并排布置的吸附模块,每一吸附模块内均设有若干吸附位,每一吸附模块底部均配本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种偏光片清洁设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种偏光片清洁设备,其特征在于,每一所述限位部均包括固定连接在两支架(2)之间的限位板(23),两所述限位板(23)相向的两侧壁均为波浪型,两限位板(23)的波峰和波谷错位布置,所述滑动部与两限位板(23)的波浪型侧壁滑动相抵。

3.根据权利要求2所述的一种偏光片清洁设备,其特征在于,所述滑动部包括沿平行于两支架(2)的方向滑动设置在连接部底部的滑动板(5),所述滑动板(5)的两端均安装有抵接件,两所述抵接件一一对应与两限位板(23)的波浪型侧壁滑动相抵,所述清洁部竖直伸缩设置在滑动板(5)的底部...

【技术特征摘要】

1.一种偏光片清洁设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种偏光片清洁设备,其特征在于,每一所述限位部均包括固定连接在两支架(2)之间的限位板(23),两所述限位板(23)相向的两侧壁均为波浪型,两限位板(23)的波峰和波谷错位布置,所述滑动部与两限位板(23)的波浪型侧壁滑动相抵。

3.根据权利要求2所述的一种偏光片清洁设备,其特征在于,所述滑动部包括沿平行于两支架(2)的方向滑动设置在连接部底部的滑动板(5),所述滑动板(5)的两端均安装有抵接件,两所述抵接件一一对应与两限位板(23)的波浪型侧壁滑动相抵,所述清洁部竖直伸缩设置在滑动板(5)的底部。

4.根据权利要求3所述的一种偏光片清洁设备,其特征在于,每一所述抵接件均包括与滑动板(5)一端固定相连且沿竖直方向相向布置的两连接架(51)以及转动安装在两连接架(51)之间的滚轮(52),所述滚轮(52)用于与对应限位板(23)的波浪型侧壁相抵。

5.根据权利要求3所述的一种偏光片清洁设备,其特征在于,所述连接部包括与往复机构的动力输出端相连的连接板(4),所述连接板(4)底部沿平行于两支架(2)的方向开设有滑槽(41),所述滑动板(5)通过其顶部固定安装的卡接板(53)与所述滑槽(41)滑动卡接。

6.根据权利要求5所述的一种偏光片清洁设备,其特征在于,所述滑动板(5)底部竖直安装有两伸缩气缸(6),两所述伸缩气缸(6)分别位于滑动板(5)的两端,两伸缩气缸(6)的伸缩端均与清洁部固定相连。

7.根据权利要求6所述的一种偏光片清洁设备,其特征在于,所述清洁部包括与滑动板(5)底部固定相连的固定板(54)、竖直滑动设置在固定板(54)...

【专利技术属性】
技术研发人员:曾剑严青松周文陈贺石磊峰
申请(专利权)人:重庆合利众恒科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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