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本发明公开了基于研磨抛光参数的无介质全息光学元件加工工艺以及无介质全息光学元件，具体涉及无介质全息光学元件领域，所述光学元件依次包括以下三层结构：第一层结构为主导电层，由以下组分按质量份数比构成：还原型氧化石墨烯40份、银纳米线22份、聚乙...
该专利属于江西像航科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江西像航科技有限公司授权不得商用。

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