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本申请提供了一种光致产酸剂、抗蚀剂组合物及图案形成方法，涉及光刻材料技术领域。该光致产酸剂具有结构式(1)所表示的通式，  (1)结构式(1)中，a为1或2；X为‑CO‑，与其两侧形成五元环的二甲酰亚胺，或者X为‑CH2CO‑，与其两侧形成...
该专利属于湖北鼎龙芯盛科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖北鼎龙芯盛科技有限公司授权不得商用。

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