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本申请涉及光阻抗蚀剂技术领域，特别涉及一种针对厚光阻抗蚀剂的剥除液及制备方法。按照质量份数，所述针对厚光阻抗蚀剂的剥除液包括溶剂体系30~40份，活性成分20~30份，改性剂3~7份，稳定剂0.5~1份，所述稳定剂为羟乙基纤维素；所述活性成...
该专利属于南通得安电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南通得安电子材料有限公司授权不得商用。

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