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本公开提供等离子体工艺设备及处理方法、控制装置及存储介质，该设备包括：腔体、承载装置、过滤装置、进气装置、等离子体激发装置，过滤装置包括第一离子过滤单元和第二离子过滤单元，进气装置包括与等离子体产生区域连通的辅助气体输入组件和与等离子体间接...
该专利属于上海谙邦半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海谙邦半导体设备有限公司授权不得商用。

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