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本申请提供了一种晶圆光刻过程中对准失败的处理方法及装置，所述处理方法包括：若识别到晶圆的目标光刻阶段发生对准失败，确定是否存在至少一个未使用的备用对准标记；若存在，按预设选取规则从至少一个未使用的备用对准标记中，确定目标光刻阶段对晶圆进行再...
该专利属于粤芯半导体技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过粤芯半导体技术股份有限公司授权不得商用。

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