专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
鸿海精密工业股份有限公司
>
功率半导体装置及其制造方法制造方法及图纸
>技术资料下载
下载功率半导体装置及其制造方法的技术资料
文档序号:46565440
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
功率半导体装置包含功率半导体装置包含漏极金属、位在漏极金属上的基底层、位在基底层上并具有第一导电类型的磊晶层、位在磊晶层中的分裂栅极、电场遮蔽区、栅极氧化层以及源极金属。分裂栅极包含第一栅极与第二栅极,且第二栅极位在第一栅极上方。电场遮蔽区...
该专利属于鸿海精密工业股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过鸿海精密工业股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。