下载叠层硅沟道的预清洗方法的技术资料

文档序号:46560314

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本发明提供了一种叠层硅沟道的预清洗方法,涉及半导体加工工艺技术领域,以解决叠层硅沟道的氧化层清洗不均匀的问题。叠层硅沟道的预清洗方法包括准备步和预清洗步;准备步中,预清洗腔室的压力为第一压力;预清洗步中,利用预清洗气体清洗叠层硅沟道的氧化层...
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