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磁性存储器件及其制作方法技术
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文档序号:46469759
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本申请提供一种磁性存储器件及其制作方法。该磁性存储器件包括:磁隧道结,磁隧道结以掩模层为掩模刻蚀形成;掩模层包括:第一分体、设置在第一分体远离磁隧道结的一侧的第二分体,以及环绕第二分体的第三分体;第一分体和第二分体导电,第三分体绝缘;其中,...
该专利属于青岛海存微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过青岛海存微电子有限公司授权不得商用。
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