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本发明公开了一种阵列结构的钨铜复合材料及其制备方法;该材料包括:钨铜复合材料立方体、钨铜复合材料阵列底座、阵列三维孔隙;该方制备法包括:步骤一、取原料压型;步骤二、脱胶和预烧结;步骤三、涂布浆料和烘干;步骤四、熔渗烧结;步骤五、去除底座;本...该专利属于长沙升华微电子材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过长沙升华微电子材料有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种阵列结构的钨铜复合材料及其制备方法;该材料包括:钨铜复合材料立方体、钨铜复合材料阵列底座、阵列三维孔隙;该方制备法包括:步骤一、取原料压型;步骤二、脱胶和预烧结;步骤三、涂布浆料和烘干;步骤四、熔渗烧结;步骤五、去除底座;本...