下载一种wafer可调心对位装置及其对位方法的技术资料

文档序号:46436404

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本发明属于半导体晶圆工艺处理技术领域,具体地说是一种wafer可调心对位装置及其对位方法,上吸附盘体安装于高温真空腔体内的顶部,升降pin固定在高温真空腔体的底部、且位于上吸附盘体的下方;伸缩杆为多个,高度方向位于上吸附盘体与升降pin之间...
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